日本技術(shù)人員轉(zhuǎn)投海外企業(yè)、技術(shù)流失的問題日益嚴(yán)重。韓國(guó)三星集團(tuán)成為了日本技術(shù)人員最大的轉(zhuǎn)職去處。在三星集團(tuán)飛躍的背后，日本技術(shù)人員培育的高超技術(shù)在做支撐。
松下、NEC、東芝、日立制作所。這些公司都是技術(shù)人員轉(zhuǎn)職到韓國(guó)三星集團(tuán)的“大戶”。積極聘用日本技術(shù)人員的三星，把日本公司培育的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)最大限度轉(zhuǎn)化成了自己的優(yōu)勢(shì)。
乘著“安倍經(jīng)濟(jì)學(xué)”的東風(fēng)，日本制造業(yè)整體上處于略微恢復(fù)態(tài)勢(shì)。但從各家企業(yè)的具體情況來看，多數(shù)企業(yè)如今還很難說已經(jīng)脫離了困境。
2010年，GDP（國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值）滑落到世界第3位；2011年，世界專利申請(qǐng)件數(shù)跌至第3位——近年來，日本在全世界的地位明顯下滑。從新興市場(chǎng)國(guó)家的飛速發(fā)展，以及日本人口減少的預(yù)測(cè)來看，要想打破衰退的局面，可以說是非常困難的。
競(jìng)爭(zhēng)力源泉的人“財(cái)”不斷流失
但有一點(diǎn)可以確定。要想獲得強(qiáng)大的競(jìng)爭(zhēng)力，就必須更加認(rèn)真地培養(yǎng)、網(wǎng)羅優(yōu)秀的人“財(cái)”。正如武田信玄的名言“人是城、人是墻”，對(duì)于公司而言，最重要的是人“財(cái)”。
但最近幾年日本出現(xiàn)了一個(gè)非常嚴(yán)重的問題——日本技術(shù)人員不斷向海外流失。原本隸屬于日本企業(yè)的技術(shù)人員因?yàn)橹亟M或是獵頭，大多轉(zhuǎn)投韓國(guó)、臺(tái)灣、中國(guó)大陸等海外企業(yè)，帶走了之前在日本公司累積的大量技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。但至于流失的程度有多嚴(yán)重，卻鮮有調(diào)查數(shù)據(jù)。
此次，筆者就把目光對(duì)準(zhǔn)長(zhǎng)期籠罩著一層面紗的日本技術(shù)人員流失問題。通過專利信息，對(duì)實(shí)際情況進(jìn)行分析。
分析對(duì)象僅限日本的專利信息（向日本專利廳提交的信息），這是因?yàn)檎{(diào)查針對(duì)的是日本技術(shù)人員。估計(jì)人“財(cái)”流失的實(shí)際規(guī)模要大于本次分析的結(jié)果。
除了近1年半以來申請(qǐng)的專利，專利信息原則上全部公開，本文就以這些公開信息為分析對(duì)象。
數(shù)據(jù)利用專利搜索服務(wù)“SRPARTNER”（日立系統(tǒng)制作）抽取（截至2013年5月1日），分析作業(yè)使用了“INNOVATION NAVI”（COSMOTEC Patent Information Systems制作）等軟件。
專利申請(qǐng)：日本減、海外增
下圖匯總了日本專利廳專利申請(qǐng)件數(shù)的變化情況。專利申請(qǐng)總件數(shù)以前維持在1年約40萬(wàn)件的水平。后來，為了減輕專利廳的負(fù)擔(dān)、加快審查速度，若干相關(guān)法律做了修改，受此影響，再加上重視質(zhì)量，專利數(shù)量呈緩慢減少的趨勢(shì)。
受到2008年雷曼危機(jī)的影響，從2009年開始，申請(qǐng)件數(shù)大幅減少。這是眾多日本企業(yè)受到經(jīng)濟(jì)倒退的打擊，紛紛減少申請(qǐng)件數(shù)的結(jié)果。與此幾乎同時(shí)，眾多企業(yè)開始裁員。 
反觀向日本申請(qǐng)專利的海外企業(yè)，中國(guó)大陸的增長(zhǎng)尤為顯著，臺(tái)灣基本持平，韓國(guó)也從2010年開始回暖。由此可以猜測(cè)，當(dāng)日本技術(shù)人員在裁員中丟掉飯碗的時(shí)候，海外企業(yè)成了他們的歸宿。而且，海外企業(yè)求賢若渴，在他們看來，即使不在裁員之列，技術(shù)好、待遇差的日本技術(shù)人員也稱得上是上佳的獵頭人選。
下表匯總了韓國(guó)、臺(tái)灣、中國(guó)大陸代表性企業(yè)的申請(qǐng)件數(shù)與發(fā)明人數(shù)。韓國(guó)企業(yè)因?yàn)樯暾?qǐng)件數(shù)多，所以統(tǒng)計(jì)的時(shí)間段縮短到了2008年以后。
三地中，以韓國(guó)三星電子為代表的三星集團(tuán)在申請(qǐng)件數(shù)上一枝獨(dú)秀。把亞軍LG遠(yuǎn)遠(yuǎn)拋在了后面。在發(fā)明人數(shù)中，日本人占到了225人之多。 
臺(tái)灣企業(yè)中，鴻海精密工業(yè)的申請(qǐng)件數(shù)最多。值得關(guān)注的是，日本人發(fā)明的專利占到了7.2％，比例也非常高。
與二者相比，中國(guó)大陸企業(yè)的發(fā)明人之中幾乎沒有日本人。世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織（WIPO）表示，2012年，在各企業(yè)根據(jù)《專利合作條約》（PCT）提交的國(guó)際申請(qǐng)中，中興通訊（ZTE）排名第一，華為技術(shù)名列第四，中國(guó)企業(yè)自身實(shí)力的飛躍顯而易見。
2012年的申請(qǐng)目前尚未公開，因此在本數(shù)據(jù)中沒有體現(xiàn)。另外，2012年以前提交的申請(qǐng)雖然進(jìn)入了公開期，但本數(shù)據(jù)中不包含未轉(zhuǎn)移到日本的申請(qǐng)（這種情況適用于所有申請(qǐng)，并非針對(duì)中國(guó)企業(yè)）。鑒于以上情況，對(duì)于新興的中國(guó)企業(yè)，目前還看不到明顯的趨勢(shì)。但今后，中國(guó)企業(yè)的申請(qǐng)件數(shù)無疑將會(huì)增加，與此同時(shí)，日本技術(shù)人員的動(dòng)向也將受到關(guān)注。
根據(jù)以上推斷，從目前的數(shù)據(jù)來看，三星可以認(rèn)為是日本技術(shù)人員最大的接收企業(yè)。下面，筆者將把焦點(diǎn)鎖定三星來進(jìn)行分析。
極為重要的橫濱研究所
三星在世界各地設(shè)有從事R&D（研發(fā)）的研究所。三星主頁(yè)上介紹了14家主要研究所，其中，橫濱研究所設(shè)在日本。該研究所以株式會(huì)社的形式獨(dú)立經(jīng)營(yíng)，自從1992年成立以來，一直在通過自主或與總部合作的方式，積極開展研究、專利申請(qǐng)與注冊(cè)業(yè)務(wù)。
從橫濱研究所官網(wǎng)的介紹來看，該研究所共有員工551人（截至2012年12月）。迄今為止，共在日本申請(qǐng)專利288件，參與專利開發(fā)的日本技術(shù)人員有182人。
而在整個(gè)三星集團(tuán)，包括橫濱研究所在內(nèi)，2002年以后，參與申請(qǐng)日本專利的日本技術(shù)人員為485人。橫濱研究所的影響力之高可見一斑。
近年來，橫濱研究所的重要性更是與日俱增。在2009年之前，該研究所1年新聘的日本技術(shù)人員均不足20人。但進(jìn)入2010年后，這一數(shù)字增加到了52人。
從轉(zhuǎn)職到申請(qǐng)專利需要的時(shí)間或許因人而異，但是，如果按照1～2年計(jì)算，我們可以認(rèn)為，在2008～09年期間，出現(xiàn)了大量的轉(zhuǎn)職人員。由此可以推測(cè)，三星戰(zhàn)略性地聘用了日本企業(yè)在雷曼危機(jī)之后裁減的人員。
松下是最大的人“財(cái)”來源
包括橫濱研究所在內(nèi)，轉(zhuǎn)職到三星集團(tuán)的日本技術(shù)人員主要來自哪些企業(yè)呢？為此，我們追蹤了參與三星日本專利申請(qǐng)的485名日本技術(shù)人員，在下面表格中，統(tǒng)計(jì)了他們?cè)瓉砣温毜墓?。結(jié)果，日本著名的電子廠商悉數(shù)上榜。
其中，來自松下的人數(shù)最多。松下收購(gòu)的三洋電機(jī)排在第五名。之后是第二名的NEC，第三名的東芝和日立制作所。
在這些公司中，技術(shù)人員分別參與的是哪些領(lǐng)域的專利申請(qǐng)呢？為了對(duì)此進(jìn)行調(diào)查，下圖通過FI號(hào)（專利廳授予的技術(shù)分類代碼），按照技術(shù)人員原來所在的企業(yè)，匯總了技術(shù)領(lǐng)域。由此可以得出以下結(jié)論。
①在圖像處理及通信技術(shù)（FI號(hào)H04N，下同）領(lǐng)域，原三洋電機(jī)與富士通的員工最多；②在光盤相關(guān)技術(shù)（G11B）領(lǐng)域，原松下與東芝的員工最多；③在有機(jī)EL（電致發(fā)光）相關(guān)技術(shù)（H05B）領(lǐng)域，原NEC的員工獨(dú)占鰲頭；④在電池相關(guān)技術(shù)（H01M）領(lǐng)域，原松下與日立的員工最多；⑤在半導(dǎo)體裝置相關(guān)技術(shù)（H01L）領(lǐng)域，原瑞薩電子的員工最多。
顯而易見，轉(zhuǎn)職者把老東家代表性技術(shù)領(lǐng)域的經(jīng)驗(yàn)運(yùn)用到了三星的專利申請(qǐng)之中。
上面5個(gè)技術(shù)領(lǐng)域是按照申請(qǐng)件數(shù)多少的順序排列的。而申請(qǐng)后成功注冊(cè)的專利中，件數(shù)最多的是有機(jī)EL相關(guān)技術(shù)（下圖）。234件申請(qǐng)中，有137件注冊(cè)，注冊(cè)率超過58％。電池相關(guān)技術(shù)的注冊(cè)率也超過了50％。
圖像處理及通信技術(shù)的申請(qǐng)件數(shù)雖然最多，為293件，而注冊(cè)件數(shù)只有96件，注冊(cè)率僅為約30％。
除此之外，按照普遍觀點(diǎn)，被其他公司專利引用的次數(shù)（審查官引用）與專利價(jià)值的多寡具有相關(guān)關(guān)系，通過對(duì)該數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，筆者發(fā)現(xiàn)，與其他技術(shù)相比，日本技術(shù)人員參與的有機(jī)EL相關(guān)技術(shù)的申請(qǐng)被引用的次數(shù)接近前者的3倍。顯示出了日本技術(shù)人員在該領(lǐng)域的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
傳聞三星擁有中小型有機(jī)EL面板9成的份額。在這個(gè)份額的背后，日本技術(shù)人員無疑做出了卓越的貢獻(xiàn)。
今后致力于發(fā)展電池技術(shù)
接著，筆者分析了三星的日本技術(shù)人員近年來鉆研的技術(shù)主題。下圖按照技術(shù)領(lǐng)域，分類匯總了三星的日本技術(shù)人員參與的申請(qǐng)的變遷。由圖可知，此前，圖像處理及通信技術(shù)的總數(shù)最多；而近年來，電池相關(guān)技術(shù)開始增加。
由于最近1年半的專利信息原則上保密。2011年、2012年之所以也有數(shù)據(jù)，是因?yàn)樯暾?qǐng)了加快審查速度，公開時(shí)間比通常要快。由此可以推測(cè)，在三星來看，這些發(fā)明非常重要，可以說，同期的申請(qǐng)件數(shù)與該公司專注的程度之間存在極高的相關(guān)關(guān)系。
而在申請(qǐng)件數(shù)有所增加的電池相關(guān)技術(shù)中，對(duì)該技術(shù)進(jìn)一步細(xì)分可以發(fā)現(xiàn)，關(guān)于活性物質(zhì)的申請(qǐng)的增幅尤為顯著。
該領(lǐng)域主要與鋰離子電池內(nèi)的活性物質(zhì)、尤其是表面覆膜的活性物質(zhì)有關(guān)。在該領(lǐng)域，各公司從1990年代后期開始全面進(jìn)行開發(fā)，總申請(qǐng)件數(shù)現(xiàn)在仍在持續(xù)增加，是整個(gè)行業(yè)研究的熱點(diǎn)。
2009年之前，該領(lǐng)域申請(qǐng)數(shù)量最多的是包括三洋電機(jī)在內(nèi)的松下集團(tuán)。然而，到了2010年以后，豐田登上首位，松下集團(tuán)退居第二，三星躍升到了第三名。從申請(qǐng)內(nèi)容分析，豐田主要是當(dāng)紅的車載用途等大型電池。三星則是以智能手機(jī)、平板電腦等使用的小型電池為主，著眼點(diǎn)各不相同。
2012年，三星小型鋰離子電池的供貨份額超過了松下，登上了全球第一的寶座。該領(lǐng)域及其他領(lǐng)域申請(qǐng)專利的技術(shù)估計(jì)有助于擴(kuò)大份額。
對(duì)于活性物質(zhì)的相關(guān)申請(qǐng)，為了詳細(xì)分析各公司的技術(shù)特點(diǎn)，我們使用了F項(xiàng)分類（由日本專利廳授予、與FI號(hào)分類方式不同的技術(shù)分類代碼）。下圖選取2010年后在該領(lǐng)域申請(qǐng)數(shù)量靠前的5家公司，對(duì)其情況進(jìn)行了分析。各公司開發(fā)的重點(diǎn)，主要圍繞改善充電循環(huán)壽命和提高容量效率。三星也是如此。
在該領(lǐng)域三星提出的申請(qǐng)中，日本技術(shù)人員參與了一半以上。在與對(duì)手競(jìng)爭(zhēng)激烈的最尖端的領(lǐng)域，三星的日本技術(shù)人員可以說表現(xiàn)出了極高的貢獻(xiàn)度。
三星也有技術(shù)人員轉(zhuǎn)職
日本技術(shù)人員流失的背景在于原公司業(yè)績(jī)惡化、無法養(yǎng)活技術(shù)人員。要想克服這個(gè)問題，就必須調(diào)整研發(fā)戰(zhàn)略、事業(yè)戰(zhàn)略、知識(shí)產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略，但是，倘若把目光投向每一名技術(shù)人員，為追求更好的環(huán)境而轉(zhuǎn)職的在日本國(guó)內(nèi)早已有之，就個(gè)人發(fā)展而言，可以說是理所當(dāng)然。
但有一點(diǎn)需要注意。對(duì)于日本技術(shù)人員，轉(zhuǎn)職的下家是不是穩(wěn)定的歸宿？這對(duì)于國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)職也同樣適用，因?yàn)椤安灏嗌蓖鶗?huì)受到苛刻的對(duì)待。倘若得不到信賴，技術(shù)人員身上的技術(shù)一旦過時(shí)，也就淪為了“廢品”。在這一點(diǎn)上，海外企業(yè)的做法更加冷酷。
在此次分析的485名三星的日本技術(shù)人員中，133人已經(jīng)在日后變?yōu)槠渌髽I(yè)的發(fā)明人?；旧弦呀?jīng)離開了三星。比例高達(dá)27.4％。而厚生勞動(dòng)省的2011年雇用動(dòng)向調(diào)查顯示，制造業(yè)的平均離職率為9.7％，可見三星的日本技術(shù)人員再次轉(zhuǎn)職的離職率是很高的。
如果把在三星的第一次申請(qǐng)與最后一次申請(qǐng)之間的時(shí)間段視為任職期間，上述133人的平均任職期間約為2年零6個(gè)月。實(shí)際任職期間估計(jì)還要再久一點(diǎn)，但也屬于短的了。
當(dāng)然，短期內(nèi)再次轉(zhuǎn)職并不一定都是壞事。但對(duì)于希望長(zhǎng)期工作的技術(shù)人員而言，這個(gè)數(shù)據(jù)可以說很不樂觀。
那么，已經(jīng)離開三星的，究竟是哪些領(lǐng)域的技術(shù)人員呢？從這些人員在新公司申請(qǐng)專利的技術(shù)領(lǐng)域來看，半導(dǎo)體裝置相關(guān)技術(shù)最多。三星在該領(lǐng)域的申請(qǐng)數(shù)量于2006年達(dá)到頂峰，之后不斷減少，由此可以預(yù)測(cè)，三星對(duì)該領(lǐng)域做出了戰(zhàn)略整理。
另外，在三星近年來大力發(fā)展的電池相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域，也有近20人退職。人才流動(dòng)的速度之快可見一斑。
根據(jù)以上分析，日本技術(shù)人員流失現(xiàn)狀浮出了水面。實(shí)際上，如果調(diào)查一下接收企業(yè)在各國(guó)當(dāng)?shù)氐纳暾?qǐng)，或許還會(huì)發(fā)現(xiàn)更多參與申請(qǐng)的日本人，在近1年半的保密期內(nèi)，或許出現(xiàn)了更嚴(yán)峻的事態(tài)。人“財(cái)”的流失已經(jīng)侵襲到了日本企業(yè)的每一個(gè)部門。
人“財(cái)”的國(guó)際交流有利于世界技術(shù)革新。但單方向的流失是造成國(guó)力低下、企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力低下的直接原因。要想阻止這樣的潮流絕非易事。日本企業(yè)的管理層必須從根本上調(diào)整思路的時(shí)刻已經(jīng)近在眼前。（特約撰稿人：武藤謙次郎）
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